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  由于以Kapton和F46 柔性材料為基底的二次表面鏡在衛(wèi)星上起著重要的熱控作用, 所以對它們直接暴露在空間那一邊的高絕緣表面的改性, 不僅要滿足防靜電積累的要求,還必須兼顧它們的光學性質, 不能因表面改性而降低它們的熱控效果. 因而對所制備的導電膜除了測其膜電阻外, 還進行了光透過率和發(fā)射率的測量. 膜電阻測量按部標QJ-2306“ 空間環(huán)境下材料表面電阻測試方法”規(guī)定的內容進行. 膜的透過率用P-E 紫外可見紅外分光光度計測量, 發(fā)射率用美國A E 發(fā)射計測量。

  考慮到Kapton等柔性二次表面鏡在制備有抗靜電膜后, 在貯存、運輸、衛(wèi)星總裝以及空間應用各階段都可能造成對導電膜性能的影響, 因此檢驗所制備的導電膜性能的穩(wěn)定性也是極為必要的. 美國GE 公司和sheldhal公司在這方面進行了相當細致的工作，還制定了試驗規(guī)范. 參照他們的工作, 甚至部分試驗還在更為苛刻的條件下完成了對新研制的導電膜的穩(wěn)定性評估試驗。

  通過對三種導電膜系的各種評價試驗, 充分表明了利用平面磁控濺射方法在優(yōu)選的工藝參數(shù)條件下, 可以制備出性能優(yōu)良的抗靜電導電膜. 而且電學性質和光學性質具佳.特別TO膜不須經(jīng)高溫后處理即可達到與ITO、IO膜相同的性能, 這一工藝研究結果對降低成本帶來了很大好處。